CMP抛光液又名CMP研磨液，或CMP磨料，是平整化工艺中研磨资料和化学添加剂的混合物，CMP 抛光液一般由超细固体粒子研磨剂(如纳米级 SiO2、Al2O3粒子等)、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等组成。固体粒子供给研磨效果，化学氧化剂供给腐蚀溶解效果。

  抛光液的首要用途为：用于各类集成电路、蓝宝石及其他范畴等的抛光进程，是用来辅佐抛光、维护硅片免受划伤的一种必备化学耗材。

  在高端半导体范畴，国内厂商现在首要是安集微电子一家，公司客户广泛除大陆之外的美国、欧洲、新加坡、马来西亚、台湾等区域，这中心还包含数家全球闻名的晶圆制作企业如，中芯世界、台积电和Intel等。半导体用CMP抛光液技术壁垒高，商场集中度极高，高端产品首要被日美企业独占。

  在中低端范畴已根本国产化。国内厂商如上海新安纳电子科技有限公司，湖北海力天恒纳米科技有限公司，深圳市力合资料有限公司，湖南皓志科技股份有限公司，无锡易洁工业介质有限公司等，占有重要位置。

  2017年我国CMP抛光液消费量到达了2137万升，估计2025年将到达9653万升。

  恒州博智宣布《2018年我国商场CMP抛光液开展研讨陈述》该陈述供给了CMP抛光液职业的根本概略，包含界说，分类，使用和产业链结构。评论开展方针和方案以及制作流程和本钱结构。

  陈述侧重重视全球首要区域职业参与者，包含公司简介，产品图片和标准，出售，商场占有率和联络信息等信息。更重要的是，剖析CMP抛光液职业开展的新趋势和营销途径。供给了关于职业现状的首要统计数据，关于对商场有爱好的公司和个人来说是一个名贵的辅导和方向。

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